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      • 德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺

        類別:F-J

      • 型號:德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺

      • 價格:¥900.00

      • 發(fā)布時間:2024-11-5 10:35:9

      • 簡介: 德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺 德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺 德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺 德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺

      產(chǎn)品訂購熱線:18921392057
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      德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺,MRO特價型號

      德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺,MRO特價型號

      德國WAGO萬可模塊750-455現(xiàn)貨秒殺,MRO特價型號

      ?

      ?WAGO?I/O?系統(tǒng)?750/753

      貨號?750-455
      4通道模擬輸入;4?…?20?毫安;單端
      該模擬輸入模塊處理標(biāo)準(zhǔn)?4–20?mA?信號。

      輸入信號是電氣隔離的,并以?12?位的分辨率傳輸。

      內(nèi)部系統(tǒng)電源為模塊供電。

      模塊的輸入通道具有公共接地電位。
      模擬輸入數(shù)量 4
      通道總數(shù)(模塊) 4
      信號類型 當(dāng)前的
      信號類型(電流) 4?…?20?mADC
      傳感器連接 4?個(2?線)
      輸入電壓(最大值) 32?伏
      信號特性 單端
      分辨率?[位] 12位
      輸入電阻(最大) 100Ω?_
      數(shù)據(jù)寬度 4?x?16?位數(shù)據(jù);4?x?8?位控制/狀態(tài)(可選)
      轉(zhuǎn)換時間(典型值) 10毫秒
      測量誤差(參考溫度) 25?°C
      測量誤差,與上限值的偏差(最大值) 0.1?%
      上限值的溫度誤差(最大值) 0.01?%/K
      電源電壓(系統(tǒng)) 5伏直流;通過數(shù)據(jù)聯(lián)系人
      電流消耗(5?V?系統(tǒng)電源) 65毫安
      電源電壓(場) 24?VDC?(-25?…?+30?%);通過電源跨接觸點(通過刀片觸點供電;通過彈簧觸點傳輸)
      隔離 500?V?系統(tǒng)/場
      輸入電源跳線觸點數(shù)量 2
      輸出電源跳線觸點數(shù)量 2
      連接技術(shù):輸入/輸出 8?x?CAGE?CLAMP
      連接類型?1 輸入/輸出
      實心導(dǎo)體 0.08?…?2.5?mm2?/?28?…?14?AWG
      細(xì)絞導(dǎo)體 0.08?…?2.5?mm2?/?28?…?14?AWG
      帶材長度 8?…?9?毫米?/?0.31?…?0.35?英寸
      寬度 12?毫米/0.472?英寸
      高度 100?毫米/3.937?英寸
      深度 69.8?毫米/2.748?英寸
      距離?DIN?導(dǎo)軌上邊緣的深度 62.6?毫米/2.465?英寸

      WAGO750-530模塊1.00

      WAGO750-530模塊1.00

      WAGO750-5551.00

      WAGO750-4608.00

      WAGO750-455模塊9.00

      WAGO750-140514.00

      WAGO750-46114.00

      WAGO750-600模塊18.00

      WAGO750-33318.00

      WAGO750-56032.00

      WAGO750-150450.00

      WAGO750-455模塊70.00

      WAGO279-683接線端子97.00

      WAGO750-1420100.00

      WAGO750-455模塊100.00

      ?半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用與解決方案

      全球?5G?產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展對半導(dǎo)體及設(shè)備需求將產(chǎn)生較大的拉動作用。作為全球最大的半導(dǎo)體消費市場,中國對半導(dǎo)體器件產(chǎn)品的需求持續(xù)旺盛,國內(nèi)巨大的市場需求也為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備提供了發(fā)展機(jī)遇。半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)是半導(dǎo)體芯片制造的基石,同時是半導(dǎo)體行業(yè)的基礎(chǔ)和核心,主要應(yīng)用于IC制造和IC封測兩大領(lǐng)域。
      單晶硅爐解決方案
      半導(dǎo)體工藝設(shè)備為半導(dǎo)體大規(guī)模制造提供了制造基礎(chǔ)。作為半導(dǎo)體工藝頭道工序的單晶體拉胚的單晶爐,在硅片制造過程中發(fā)揮著極其重要的作用。半導(dǎo)體器件的集成化、微型化程度更高、功能更強(qiáng)大。具備通用、緊湊、經(jīng)濟(jì)三大特性的WAGOI/O-SYSTEM,可滿足單晶硅爐應(yīng)用中對爐壓自動控制、CCD非接觸測量、爐體恒溫控制的需求。此外,萬可軌裝式接線端子系列憑借豐富的產(chǎn)品種類及一應(yīng)俱全的附件產(chǎn)品為實現(xiàn)單晶硅爐對連接穩(wěn)定性、防護(hù)性及高性價比等方面提供有力支持。

      薄膜沉積是集成電路制造過程中必不可少的環(huán)節(jié),傳統(tǒng)的薄膜沉積工藝主要有PVD、CVD等氣相沉積工藝:?PVD指物理氣相沉積,PVD指化學(xué)氣相沉積。集成電路薄膜制備工藝設(shè)備對成本及流程監(jiān)控的需求不斷提升。
      萬可提供整套包括電源、PLC、軌裝式接線端子的高附加值創(chuàng)新性解決方案,從規(guī)劃到項目設(shè)計再到測試與調(diào)試,在控制柜構(gòu)建的每個階段為用戶助力,可降低成本、節(jié)約時間,同時減少精力消耗。

      光刻機(jī)解決方案
      光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備之一。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。高端光刻機(jī)要求更精密的定位控制和更精密的自動調(diào)焦。萬可軌裝端子、PCB連接器、繼電器、PLC控制器以及三相電力模塊等產(chǎn)品滿足了光刻機(jī)的嚴(yán)苛要求,支持設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。


      刻蝕機(jī)解決方案
      刻蝕是將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理,然后通過其他方式實現(xiàn)腐蝕處理掉所需出去的部分。分為濕法刻蝕和干法刻蝕。刻蝕機(jī)作為芯片制造的關(guān)鍵裝備,是光刻機(jī)的重要合作伙伴,彼此需要相互協(xié)作才能最終完成電路在硅片上的刻錄。萬可工業(yè)穩(wěn)壓電源與電氣連接產(chǎn)品性能十分出色,可靠穩(wěn)定,堅穩(wěn)耐用,效率高,外形緊湊滿足了刻蝕機(jī)設(shè)備對于電源安全控制和安裝方面的嚴(yán)苛要求。




      清洗設(shè)備解決方案

      由于集成度迅速提高和元器件尺寸不斷減小,對于硅片表面清潔度要求更加嚴(yán)格,每一道工序都存在著污染和造成缺陷的可能。因此,需要各種清洗設(shè)備來盡量避免污染和損傷。例如,在集成電路制造工藝(成膜、CMP、刻蝕等)過程中會遇到超微細(xì)顆粒物、金屬殘留、光刻膠殘留等問題。這些顆粒或者殘留最終會影響芯片的良率,需要在工藝過程中用清洗設(shè)備將硅片表面的氧化物、氮化物去除掉。萬可提供的大電流端子、防爆端子以及IP67等產(chǎn)品滿足了清洗設(shè)備的嚴(yán)苛要求,保障了設(shè)備的安全穩(wěn)定運(yùn)行。

      ?

      1230SHOP工業(yè)商城備有以下WAGO萬可模塊現(xiàn)貨:

      ?

      WAGO750-5301.00模塊

      WAGO279-68397.00接線端子

      WAGO750-5301.00模塊

      WAGO750-5551.00

      WAGO750-4557.00模塊

      WAGO750-455100.00模塊

      WAGO750-56032.00

      WAGO750-140514.00

      WAGO750-1420100.00

      WAGO750-150450.00

      WAGO750-60018.00模塊

      WAGO750-45570.00模塊

      WAGO750-4608.00

      WAGO750-33318.00

      WAGO750-46114.00

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      ?半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用與解決方案
      全球?5G?產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展對半導(dǎo)體及設(shè)備需求將產(chǎn)生較大的拉動作用。作為全球最大的半導(dǎo)體消費市場,中國對半導(dǎo)體器件產(chǎn)品的需求持續(xù)旺盛,國內(nèi)巨大的市場需求也為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備提供了發(fā)展機(jī)遇。半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)是半導(dǎo)體芯片制造的基石,同時是半導(dǎo)體行業(yè)的基礎(chǔ)和核心,主要應(yīng)用于IC制造和IC封測兩大領(lǐng)域。
      單晶硅爐解決方案
      半導(dǎo)體工藝設(shè)備為半導(dǎo)體大規(guī)模制造提供了制造基礎(chǔ)。作為半導(dǎo)體工藝頭道工序的單晶體拉胚的單晶爐,在硅片制造過程中發(fā)揮著極其重要的作用。半導(dǎo)體器件的集成化、微型化程度更高、功能更強(qiáng)大。具備通用、緊湊、經(jīng)濟(jì)三大特性的WAGOI/O-SYSTEM,可滿足單晶硅爐應(yīng)用中對爐壓自動控制、CCD非接觸測量、爐體恒溫控制的需求。此外,萬可軌裝式接線端子系列憑借豐富的產(chǎn)品種類及一應(yīng)俱全的附件產(chǎn)品為實現(xiàn)單晶硅爐對連接穩(wěn)定性、防護(hù)性及高性價比等方面提供有力支持。

      薄膜沉積是集成電路制造過程中必不可少的環(huán)節(jié),傳統(tǒng)的薄膜沉積工藝主要有PVD、CVD等氣相沉積工藝:?PVD指物理氣相沉積,PVD指化學(xué)氣相沉積。集成電路薄膜制備工藝設(shè)備對成本及流程監(jiān)控的需求不斷提升。
      萬可提供整套包括電源、PLC、軌裝式接線端子的高附加值創(chuàng)新性解決方案,從規(guī)劃到項目設(shè)計再到測試與調(diào)試,在控制柜構(gòu)建的每個階段為用戶助力,可降低成本、節(jié)約時間,同時減少精力消耗。

      光刻機(jī)解決方案
      光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備之一。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。高端光刻機(jī)要求更精密的定位控制和更精密的自動調(diào)焦。萬可軌裝端子、PCB連接器、繼電器、PLC控制器以及三相電力模塊等產(chǎn)品滿足了光刻機(jī)的嚴(yán)苛要求,支持設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。


      刻蝕機(jī)解決方案
      刻蝕是將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理,然后通過其他方式實現(xiàn)腐蝕處理掉所需出去的部分。分為濕法刻蝕和干法刻蝕。刻蝕機(jī)作為芯片制造的關(guān)鍵裝備,是光刻機(jī)的重要合作伙伴,彼此需要相互協(xié)作才能最終完成電路在硅片上的刻錄。萬可工業(yè)穩(wěn)壓電源與電氣連接產(chǎn)品性能十分出色,可靠穩(wěn)定,堅穩(wěn)耐用,效率高,外形緊湊滿足了刻蝕機(jī)設(shè)備對于電源安全控制和安裝方面的嚴(yán)苛要求。




      清洗設(shè)備解決方案
      由于集成度迅速提高和元器件尺寸不斷減小,對于硅片表面清潔度要求更加嚴(yán)格,每一道工序都存在著污染和造成缺陷的可能。因此,需要各種清洗設(shè)備來盡量避免污染和損傷。例如,在集成電路制造工藝(成膜、CMP、刻蝕等)過程中會遇到超微細(xì)顆粒物、金屬殘留、光刻膠殘留等問題。這些顆粒或者殘留最終會影響芯片的良率,需要在工藝過程中用清洗設(shè)備將硅片表面的氧化物、氮化物去除掉。萬可提供的大電流端子、防爆端子以及IP67等產(chǎn)品滿足了清洗設(shè)備的嚴(yán)苛要求,保障了設(shè)備的安全穩(wěn)定運(yùn)行。?

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